靶材这种产品很多人听了，都应该会很陌生，而靶材的应用领域相当广泛，如半导体、显示面板、电子、光学等，而靶材是有不同材料的，像石墨靶材、金属靶材、陶瓷靶材，不同材料的靶材在应用领域上不同，接下来看看靶材如何进行分类和应用，石墨靶材会在哪个分类和应用领域。

靶材限制了薄膜的物理机械性能，影响涂层的质量。因此，靶材的质量评价比较严格，主要需要满足以下要求：

1、质量低：纯度高，靶材纯度影响薄膜的均匀性。

2、密度：高密度靶材具有导电性、导热性好、强度高等优点。该靶材用于镀膜时，溅射功率小，沉积速率快??，膜层不易破裂，靶材寿命长，溅射薄膜电阻率低，透过率高。

3、分布均匀：组织结构均匀。靶材材料的均匀成分是确保一致的涂层质量的关键因素。

4、粒径小：靶材晶粒尺寸越细，溅射薄膜的膜厚分布越均匀，溅射速度越快。

制造工艺

目前，靶材制造主要有铸造和粉末冶金两种。

粉末冶金法：

将一定成分比的合金原料熔化，注入铸锭，然后粉碎。优点是靶材成分均匀。缺点是密度低。由于杂质含量高等原因，常用的粉末冶金工艺有冷压、真空热压和热等静压。

铸造方法：

这是一种将一定成分比的合金原料熔化，将合金溶液倒入模具中制成铸锭，后面通过机械加工制成靶材，然后在真空中熔化铸造的铸造方法。常用的熔炼方法有真空感应熔炼、真空电弧熔炼、真空电子冲击熔炼等。优点是靶材杂质含量（特别是气体杂质含量、低、密度高、可大规模生产。缺点是熔点和密度相差较大。在两种或两种以上大金属的情况下，通过普通的精炼方法很难获得成分均匀的合金靶材。

靶材分类

根据不同材质分类，可分为00d100金属靶材、陶瓷（氧化物、氮化物等、靶材和合金靶材。

根据形状不同可分为矩形靶材、圆形靶材、圆柱形靶材、空心旋转管靶材和异形靶材。

应用领域

光学记录靶材：

1、相变盘记录薄膜：硒化碲靶材、硒化锑靶材、锗锑碲合金靶材、锗碲合金靶材等。

2、磁光盘记录薄膜：镝/铁/钴合金靶材、铽/镝/铁合金靶材、铽/铁/钴合金靶材、氧化铝靶材、氧化镁靶材、氮化硅靶材等。

3、CD反射膜：铝靶材、铝钛合金靶材、铝铬合金靶材、金靶材、金合金靶材等。

4、光盘保护膜：氮化硅靶材、氧化硅靶材、硫化锌靶材等。

半导体领域：

1、电极及布线膜：铝靶材、铜靶材、金靶材、银靶材、钯靶材、铂靶材、铝硅合金靶材、铝硅铜合金靶材等。

2、存储电极薄膜：钼靶材、钨靶材、钛靶材等；

3、粘合膜：钨靶材、钛靶材等。

4、电容器绝缘膜：锆钛酸铅靶材等。

显示靶材：

1、透明导电膜：氧化铟锡靶材、氧化锌铝靶材等。

2、电极布线膜：钼靶材、钨靶材、钛靶材、钽μm靶材、铬靶材、铝靶材、铝钛合金靶材、铝钽合金靶材等。

3、电致发光薄膜：硫化锌掺杂锰靶材、硫化锌掺杂铽靶材、硫化钙掺杂铕靶材、氧化钇靶材、氧化钽靶材、钛酸钡靶材等。

磁记录靶材：

1、垂直磁记录薄膜：钴铬合金靶材等。

2、硬盘用薄膜：钴铬钽合金靶材、钴铬铂合金靶材、钴铬钽铂合金靶材等。

3、薄膜磁头：钴钽铬合金靶材、钴铬锆合金靶材等。

4、人造晶体薄膜：钴/铂合金靶材、钴/钯合金靶材等。

其他应用靶材：

1、装饰膜：钛靶材、锆靶材、铬靶材、钛铝合金靶材、不锈钢靶材等。

2、低电阻膜层：镍铬合金靶材、镍铬硅合金靶材、镍铬铝合金靶材、镍铜合金靶材等。

3、超导薄膜：钇/钡/铜/氧靶材、铋/锶/钙/铜/氧靶材等；

4、工具镀膜：氮化物靶材、碳化物靶材、硼化物靶材、铬靶材、钛靶材、钛铝合金靶材、锆靶材、石墨靶材等。

综上所述，可以看到不同靶材，可以按材料区分，可以按形状区分，应用的领域有半导体、 显示、光学记录、光学记录等，像石墨靶材分类在其它应用领域。